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日本EUV专家Shinji Okazaki博士应邀在金沙电子游戏大厅 “清河之光”论坛作学术报告
信息来源: 发布时间:2013年12月20日 【 】 【打印】 【关闭

    1217日下午,金沙电子游戏大厅第五期“清河之光”论坛在多功能厅举办。本次活动邀请到日本Gigaphoton公司的EUV开发部部长顾问Shinji Okazaki博士来所作学术报告。全所近200名职工和研究生听取了报告。讲座开始前,Shinji Okazaki博士被聘为金沙电子游戏大厅名誉教授,所党委书记邵建达研究员为其颁发了名誉教授证书。 

  在本次论坛上,Shinji Okazaki博士作了题为“History, Current Status and Future Prospects of Lithography”的学术报告。报告主要介绍了光刻技术的发展历史、现存问题和相应的解决方案,并对下一代光刻技术进行了深入的探讨。报告指出193nm浸没式光刻技术与多图形技术相结合是当今的主流光刻技术。作为下一代的光刻技术,EUV光刻面临光源、掩模、光刻胶等方面的问题,电子束光刻、纳米压印和自组装技术也是很有竞争力的下一代的光刻技术。报告后,与会人员就EUV光刻技术的研究进展与前景等问题与Shinji Okazaki博士进行了深入的交流。会后,Shinji Okazaki博士分别参观了金沙电子游戏大厅强场激光物理国家重点实验室、信息光学与光电技术实验室以及高功率激光物理联合实验室。 

  Shinji Okazaki博士1970年毕业于东京工业大学理学部电子工学科,之后进入日立中央研究所工作。1980年赴美国伦斯勒理工学院(Rensselaer Polytechnic Institute)访学一年。1994年获得东京工业大学工学博士学位。1995年进入日立半导体事业部,1998年转入日立设备开发中心,同年返回日立中央研究所,并调职至日本超先进电子技术联盟ASETAssociation of Super-Advanced Electronics Technologies),担任EUV研究室室长,从事EUV光刻技术的研究。2002年就任ASETEUV工艺技术研究部部长,2006年返回日立中央研究所。2008年从日立离职,进入Gigaphoton公司工作,并调职至日本极紫外光刻系统开发协会EUVAExtreme Ultraviolet Lithography System Development Association),现为Gigaphoton公司EUV开发部部长顾问。Shinji Okazaki博士为IEEE FellowSPIE Fellow,日本应用物理学会Fellow。(所办公室、信息光学与光电技术实验室供稿)  

 


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